PECVD-24000等离子体化学气相淀积台(带Load_Lock装置)

详细描述

本设备采用PLC控制,触摸显示屏操作。其数字化参数界面和自动化操作方式为用户提供了优良的研发和生产平台。

本设备通过对真空系统、下游压力闭环控制、射频电源、气体流量及工艺过程的全自动控制,以及所具有的安全互锁、智能监控、在线状态记忆、断点保护等功能。使设备的安全性、重复性、稳定性、可靠性得到有效保证。


产品主要性能指标:


型号

PECVD-24000

真空系统

进样室:机械泵系统;刻蚀室:分子泵机组

样品尺寸

500×400mm

淀积材料

SiO2、Si3N4

淀积不均匀性

≤ ±5%

自动化程度

真空系统、机械手送/取样片、下游压力闭环控制、射频电源、气体流量、工艺过程全自动控制。

人机界面

Windows环境、触摸屏操作

操作方式

全自动方式、非全自动方式

配套件选配

可选择进口件或国产件

送/取样片方式

机械手自动送/取片


本设备带有进/取样室、真空锁和机械手自动送/取样片装置。主要用于平板显示中玻璃基板上(500×400mm)淀积SiO2,Si3N4等。

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