RIE-3反应离子刻蚀机

详细描述

本设备具有选择比较好、刻蚀速度较快、重复性好、性价比较高等特点。可刻蚀的材料主要有Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs等。

本设备主要用于微电子、光电子、通讯、微机械等领域的器件研发和制造。


产品主要性能指标

型号

RIE-3

真空系统

分子泵机组

刻蚀室数量

单室

刻蚀室规格

ø300×100mm

电极尺寸

ø200mm

刻蚀材料

Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs等。

刻蚀速率

0.1 – 1 μ/min (与刻蚀材料和工艺有关)

刻蚀不均匀性

≤±5%

操作方式

手动




本产品通过物理与化学相结合的方法,对很细的线条(亚微米以下)进行刻蚀以形成精细的图形。


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