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全自动型等离子体化学气相淀积台(PECVD-801)

本设备是“标准型等离子体化学气相淀积台(PECVD)”的全自动产品。用来淀积SiO2、Si3N4、非晶硅、碳化硅、类金刚石等多种薄膜材料，这些薄膜材料在微电子、微机械、光电子、通讯等领域有着广泛的应用；在能源材料、机械材料、各种无机材料及高分子材料的薄膜制备和表面改性中，也显示出独特的功能和巨大的潜力。

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PECVD-24000等离子体化学气相淀积台(带Load_Lock装置)

本设备带有进/取样室、真空锁和机械手自动送/取样片装置。主要用于平板显示中玻璃基板上（500×400mm）淀积SiO2，Si3N4等。

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全自动型等离子体化学气相淀积台(PECVD-802)

本设备是“标准型等离子体化学气相淀积台(PECVD)”的全自动产品。可用来淀积SiO2、Si3N4、非晶硅、碳化硅、类金刚石等多种薄膜材料，这些薄膜材料在微电子、微机械、光电子、通讯等领域有着广泛的应用；在能源材料、机械材料、各种无机材料及高分子材料的薄膜制备和表面改性中，也显示出独特的功能和巨大的潜力。

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