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RIE-501全自动反应离子刻蚀机

本产品是“标准型反应离子刻蚀机（RIE）”的全自动产品。

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ICP-500全自动感应耦合等离子体刻蚀机

本产品是“感应耦合离子体刻蚀机(ICP)”的全自动产品。

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ICP-5000全自动感应耦合等离子体刻蚀机

本产品是在“全自动ICP”的基础上增加了进样室、真空锁和机械手自动取送样片装置而成的高端设备。

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IBE-200Z离子束刻蚀机

本产品是利用低能量平行Ar+离子束对基片表面进行轰击，表面上未被掩膜覆盖部分的材料被溅射出，从而达到选择刻蚀的目的，它采用纯物理的刻蚀原理。离子束刻蚀是目前所有刻蚀方法中分辨率最高，陡直性最好的方法，它可以对所有材料进行刻蚀，例如：金属、合金、氧化物、化合物、混合材料、半导体、绝缘体、超导体等。

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RIE-3反应离子刻蚀机

本产品通过物理与化学相结合的方法，对很细的线条（亚微米以下）进行刻蚀以形成精细的图形。

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MSP-620全自动磁控溅射台

本产品是“标准型磁控制溅射台”的全自动产品。

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BP-2B型烘胶台

烘胶台产品用于光刻工艺中的前烘、后烘和坚膜。本产品具有烘胶速度快、均匀、控温精度高等特点，并可长时间连续稳定工作。本产品操作方便、稳定性高，具有较高的性能价格比，可广泛应用于科研和生产。

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全自动型反应离子刻蚀机RIE-802

本设备通过物理与化学相结合的方法，对很细的线条（亚微米以下）进行刻蚀以形成精细的图形。
本设备具有选择比较好、刻蚀速度较快、重复性好、性价比较高等特点。可刻蚀的材料主要有Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs等。

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北京金盛微纳科技有限公司为国家高新技术企业、中关村高新技术企业，中国真空学会理事单位，中国电子专用设备工业协会、中国微米纳米技术学会会员单位。主要从事半导体设备、微细加工设备的产品研制、设计开发、生产销售，并开展相关工艺的研究及应用。主要产品有...

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